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在元件或系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)過程中利用光學(xué)參數(shù)規(guī)格可使該元件或系統(tǒng)精確達(dá)到特定的性能要求。光學(xué)參數(shù)規(guī)格非常有用，原因有以下兩點(diǎn)：首先，它們可以指定決定…

隨著先進(jìn)的設(shè)備和工藝的發(fā)展，使納米量級(jí)的測(cè)量成為可能。例如，變相光學(xué)干涉儀測(cè)量物體的表面粗糙度，目前可以達(dá)到1納米的分辨率。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已生產(chǎn)出線…

激光的技術(shù)指標(biāo)選擇光學(xué)元件時(shí)，首先要明確所使用的“光”的技術(shù)指標(biāo)，光源有許多種類，有激光，發(fā)光二極管，鹵素?zé)簦饘冫u化物燈等光源，激光光源的波長有…

旋轉(zhuǎn)臺(tái)是安裝在偏光顯微鏡物臺(tái)上的附加儀器。由三個(gè)、四個(gè)或五個(gè)旋轉(zhuǎn)軸組成，將薄片夾在旋轉(zhuǎn)臺(tái)的一對(duì)玻璃半球之間，借助于各旋轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)，使晶體在空間傾斜…

隨著先進(jìn)的設(shè)備和工藝的發(fā)展，使納米量級(jí)的測(cè)量成為可能。例如，變相光學(xué)干涉儀測(cè)量物體的表面粗糙度，目前可以達(dá)到1納米的分辨率。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已生產(chǎn)出線…

光學(xué)平臺(tái)主要構(gòu)成標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)平臺(tái)基本組件包括：1、頂板；2、底板；3、側(cè)面精加工貼臉；4、側(cè)板；5、蜂窩芯；6、密封杯等。 [2]鋼的構(gòu)造優(yōu)質(zhì)平臺(tái)和面包板應(yīng)具有全鋼…

北京衡工儀器有限公司光學(xué)平臺(tái)的撓度及Z大相對(duì)位移解釋1.光學(xué)平臺(tái)的撓度撓度是指結(jié)構(gòu)構(gòu)件的軸線或中面由于彎曲引起垂直于軸線或中面方向的線位移。對(duì)于細(xì)長物…

模塊化組件設(shè)計(jì)理念，便于光路理解、便于攜帶、可大屏幕演示光路、進(jìn)行多種實(shí)驗(yàn)?zāi)K的設(shè)計(jì)與擴(kuò)展等多功能的特點(diǎn)。適用于大學(xué)物理課堂演示、大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)教學(xué)…